海德专业生产高精密平面研磨机,平面抛光机,双面研磨机,双面抛光机,研磨液,抛光液,抛光皮,抛光垫,研磨盘,抛光盘,承接平面研磨抛光,镜面抛光加工
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海德人工作中积极主动，生活中也不凡情调。我们坚信：只有开阔视野和愉悦心情，才能在工作中游刃有余。高精密双面抛光加工应用化学机械抛光(cNrn)技术，靠工件、磨粒、抛光液及抛光盘的力学作用，在工件的抛光过程中，产生局部的高温和高压，从而使直接的物理化学变化直接发生在工件与磨粒、抛光液及抛光盘之间，导致工件的表面产生物理化学变化的反应物。由于力学作用与化学作用的重迭，使得工件表面的反应物不断被磨去，从而使工件表面平滑化。
双面抛光技术是在单面抛光加工技术的基础上发展起来的，由于它在薄片工件的加工过程中能有效地避免应力差与粘结误差引起的变形问题。 因此与单面抛光加工相比，双面抛光具有加工效率高，表面变形小，易获得超光滑加工表面的优点。
一般的高精密双面抛光系统是由承载工件和下抛光盘的工作台、施加载荷的上抛光盘、带动工件旋转运动的行星轮以及供给抛光液的装置四大构件组成，系统构造如图2-1所示。
在双面抛光的过程中，由于抛光液与抛光垫之间的物理运动，导致抛光液内部的化学溶液以及磨粒于工件产生化学变化,同时在上抛光盘对工件的旋转压力的作用下，使工件表面产生的化学反应物得到切除。其原理就是，在不断的化学变化中工件表面生成一种化学膜，同时由于旋转机械摩擦切除作用去除这一层化学膜，在不停地交替中获得超精密表面，这种超精密表面加工也被称为游离磨料的CMP。在这种加工中，不能选用比工件硬度高地磨粒，只能选用硬度比工件软或是与之相当的磨粒。在机械与化学的双重作用下，工件表面不断生成一层极薄的化学膜，同时又被切除，达到极薄表面的加工，所以可以实现高精度、低表面粗糙度、无表面加工缺陷的工件表面。
深圳市海德精密机械有限公司研发生产高精密双面研磨机，如下图所示
上图的高精密双面研磨机主要用于水晶玻璃、手机玻璃屏、光学玻璃、晶体、陶瓷、电子材料、硅、镁、计算机磁盘、活塞环、陶瓷硬质合金密封件、钨钢片、铵铁硼、铁氧体、铌酸锂、热敏电阻等金属及非金属硬脆材料或异形件的双平面精密研磨或抛光。
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