镜面抛光机所用抛光液的浓度是抛光加工时的关键指标之一,这关系到研磨时对工件的划伤,摩擦时产生的磨削力等。海德研制抛光液,制造镜面抛光机有多年的经验,精通镜面抛光机和抛光液之间的关系,以及抛光液浓度对抛光效果的各种影响。以下是抛光液浓度对抛光效果的影响分析:
随着 CeO2浓度的增大,氮化硅陶瓷加工表面Ra值变小,当抛光液浓度超过20% 后,Ra值增大。其原因为: 抛光液浓度较低时,抛光液中CeO2微粒不足,即没有足够的CeO2微粒参与化学反应,从而使氮化硅材料的去除率较低,表面粗糙度差; 当抛光液浓度增大时,化学机械抛光过程中参与化学反应的原料供应增加,加大了有效机械研磨作用,使局部温度升高,化学反应加速,并且生成的软质层被有效去除,从而实现了较高的去除率和加工表面质量; 抛光液的浓度进一步增大时,化学作用得到进一步的增强,但是机械作用相对不足,导致表面粗糙度值增大。
找到影响抛光效果的关键因素之一,我们就能掌握抛光效果的完美实现。
抛光液是海德公司生产的抛光耗材之一,海德公司根据客户加工工件材质的不同为客户配制专用的抛光液,欢迎大家前来取样。0755-89813868