氧化铈抛光液:是以微米或亚微米级CeO2为磨料的氧化铈研磨液,该研磨液具有分散性好、粒度细、粒度分布均匀、硬度适中等特点。粒度在0.2μm-1.2μm范围内;包 装:25KG/桶。本品需在0 ℃以上储存,防止结冰,在0 ℃以下因产生不可再分散结块而失效。可根据用户需要配制不同浓度和不同粒度的氧化铈研磨液。
氧化铈抛光液
应用范围:硅晶圆片抛光、锗片抛光、砷化镓抛光、磷化铟抛光、光学晶体抛光、蓝宝石衬底抛光、LED衬底抛光、硒化锌抛光、玻璃抛光、石英抛光等。也广泛用于高精密光学仪器,光学镜头,微晶玻璃基板,晶体表面、集成电路光掩模等方面的精密抛光。