粗磨，精磨和精抛是研磨抛光机上的三道不同的工序，在平面研磨机进行研磨时，我们都要根据工件的情况，确定由哪些工序来实现最终效果。为何有这样不同的工序存在呢?其原因是为了根据工件的特性实现不同程度的研磨抛光效果。

　　由于这三种工序的存在有着区别，所以三道工序分别所用的研磨材料都是不一样的。一般情况下，我们在研磨抛光机上能用到的耗材有：研磨液，抛光液，研磨盘，抛光盘，抛光垫。粗磨，精磨，抛光在实现的过程中对于研磨耗材的选择具有以下特点：

　　1.粗磨选择的耗材是：粗磨液，粗磨盘。这两种耗材的成分里面，主成分的材质稍微较粗，要求硬度较高，颗粒度较大，这样才有较好的切削力。比如：铸铁盘

　　2.精磨选择的耗材是：精磨液，精磨盘。这两种耗材相对要求要高一点，需要材质更为精细，颗粒非常小的原材料生产。比如：氧化铝，锡盘

　　3.精抛选择的耗材是：精抛液，精抛盘。这个耗材要求最高，对精细度有着非常严格的标准。一般是采用纳米级颗粒度的原材料配置液体。砂轮也通常用的是微米级的金属颗粒锻造而成。比如：铜盘，二氧化硅抛光液等。

　　以上就是三种工艺所用耗材的具体搭配方式，从中我们可以得出，各个工艺所用的研磨耗材都不相同，存在着较大的差异，所以我们在选择工序时一定要听从专业研磨工程师的意见，按照工件本身所需的情况进行处理，不可在生产中随意改动，否则会浪费耗材而得不到研磨效果。

　　什么叫抛光?什么叫精磨与粗磨?从广泛的定义来分析，这三大工序是形成光学表面层的重要步骤之一，是体现在一些零件与零件之间的大比拼。在整个抛光机的市场当中，很多工作过程以及对表面层处理的机械设备都是需要用到这三大工序的。抛光，精磨，粗磨结合起来就是一个完整的抛光表面，除去表面层杂物的过程与完成部分。

　　每一个零件加工工序都是有各自的作用。

　　首先是粗磨。粗磨在前两节我跟大家也有讨论过这个问题，粗磨就是去除毛坯的大部分余量，最后所达到的效果要保持到大致的几何形状与粗糙度;

　　其次就是精磨。精磨是发生在精磨的基础上，又是为抛光准备的一步，最终达到的结果刚好是与精磨相板，结果是能够保持最精确的几何形状以及精细的裂纹深度;

　　最后就是抛光了。抛光这是最后一个工序过程，也是最终实现光学表面层实现的最后一个部分，前提下前两者必须要为最后一步抛光做好准备，使得在整个抛光过程当中，尽量去除精磨与粗磨所留下的破环层，实现光学表面最理想效果。