抛光机抛光怎样避免误差, 抛光机使用双面抛光法能避免由夹具的粘接误差及薄片工件两面的应力差引起的变形问题。但工件的厚度只有几十微米时,工件与抛光盘面紧密接触会使加工阻力增大,而引起硬脆工件的破损。因此,硬脆材料的薄片现在仍采用单面抛光加工。
为了尽可能排除透镜抛光机对工人熟练程度的要求,开发了用修正环型抛光机的平面加工法,镜面抛光机其特点是:将切片后的薄片工件粘贴在平行平面夹具上,作为名义大口径厚工件加工,并通过修正环的旋转来实时连续修正抛光盘的平面度。
这种加工方法,可通过理论公式推导出高精度的平面加工条件,并可通过在粘接工件薄片的加工夹具上附加一个与加工夹具同一直径的斜切圆柱体砝码来修正平行度。其可操作性好,修正效果的再现性也高,可用于水晶片、铌酸锂基片、钽酸锂基片、硅片等平面晶体工件的加工。
在传统的镜面抛光机上用软质抛光盘进行高精度平面抛光时,由于抛光盘面的变形和磨损,通常需凭工人的经验频繁地将抛光盘在标准平板上进行手工对研,以修正抛光盘面的变形,实现高精度的平面加工。